Франк Рохмунд из Zeiss SMT заявил, что Китай отстает от Запада в EUV-литографии примерно на 15 лет. Но новые американские санкции на оборудование DUV могут ускорить технологический прогресс КНР.
Франк Рохмунд, президент и генеральный директор подразделения Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT), заявил Bloomberg, что Китай отстает от западных стран в разработке EUV-литографии примерно на 15 лет. По его словам, это «разумное предположение с определенным диапазоном неопределенности». Интервью было опубликовано в начале сентября 2026 года.
EUV-литография — технология производства наиболее продвинутых чипов: она позволяет наносить транзисторы на кремниевые пластины с помощью экстремально короткого ультрафиолетового излучения и необходима для освоения норм 7 нм и тоньше. Единственный в мире производитель таких установок — нидерландская компания ASML. Zeiss SMT поставляет для этих машин ключевые оптические компоненты — прецизионные зеркала, без которых система не работает. Далее